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簡要描述：SEM5000X超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡是一款超高分辨率場發(fā)射掃描電鏡，電子光學鏡筒設(shè)計優(yōu)化，綜合像差降低了 30%，從而達到了0.6 nm@15 kv和 1.0 nm@1 kv的超高分辨率。超高分辨率和高穩(wěn)定性，可在先進納米結(jié)構(gòu)和納米材料的研究、芯片半導體的研發(fā)制造等領(lǐng)域發(fā)揮其性能優(yōu)勢。
產(chǎn)品型號：廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2025-06-06訪 問 量：22詳細介紹
| 品牌 | 國儀量子 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 價格區(qū)間 | 面議 | 儀器種類 | 場發(fā)射 |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子/電池,電氣 | 加速電壓 | 20V~30 kV |
| 放大倍率 | 1 ~2,500,000x | 電子槍類型 | 肖特基場發(fā)射電子槍 |
SEM5000X超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡是一款超高分辨率場發(fā)射掃描電鏡，電子光學鏡筒設(shè)計優(yōu)化，綜合像差降低了 30%，從而達到了0.6 nm@15 kv和 1.0 nm@1 kv的超高分辨率。超高分辨率和高穩(wěn)定性，可在先進納米結(jié)構(gòu)和納米材料的研究、芯片半導體的研發(fā)制造等領(lǐng)域發(fā)揮其性能優(yōu)勢。
SEM5000X超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡
超高分辨率成像，達到了突破性的0.6 nm@15 kV和1.0 nm@1 kV
樣品臺減速和高壓隧道技術(shù)組合的雙減速技術(shù)，挑戰(zhàn)極限樣品拍攝場景
高精度機械優(yōu)中心樣品臺、超穩(wěn)定性的機架減震設(shè)計，可搭配整體罩殼設(shè)計，極大減弱環(huán)境對極限分辨率的影響
最大支持8寸晶圓(最大直徑208 mm)的快速換樣倉，滿足半導體和科研應(yīng)用需求
| 關(guān)鍵參數(shù) | 分辨率 | 0.6 nm @ 15 kV，SE |
| 1.0 nm @ 1 kV，SE | ||
| 加速電壓 | 20 V ~ 30 kV | |
| 放大倍率 | 1 ~ 2,500,000 x | |
| 電子槍類型 | 肖特基場發(fā)射電子槍 | |
| 樣品室 | 攝像頭 | 雙攝像頭（光學導航+樣品倉內(nèi)監(jiān)控） |
| 樣品臺行程 | X=110 mm，Y=110 mm，Z=65 mm | |
T: -10°~+70°，R: 360° | ||
| 探測器和擴展 | 標配 | 鏡筒內(nèi)電子探測器（Inlens） |
| 倉室內(nèi)電子探測器（ETD） | ||
| 選配 | 插入式背散射電子探測器（BSED） （五分割，可選配） | |
| 插入式掃描透射探測器（STEM） | ||
| 低真空二次電子探測器（LVD） | ||
| 能譜儀（EDS） | ||
| 背散射衍射（EBSD） | ||
| 樣品交換倉（4寸和8寸可選） | ||
| 軌跡球&旋鈕板 | ||
| 雙減速技術(shù)（Duo-Dec） | ||
| 軟件 | 語言 | 中文 |
| 操作系統(tǒng) | Windows | |
| 導航 | 光學導航、手勢快捷導航，軌跡球（選配） | |
| 圖像記錄 | TIFF、JPG、PNG、BMP等 | |
| 自動功能 | 自動亮度對比度、自動聚焦、自動像散 |
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